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真空甩帶爐的使用
發(fā)布時(shí)間：2020-01-02   瀏覽：2883次

　　真空甩帶爐的使用

　　真空甩帶爐廠家采用熔態(tài)單輥旋淬法制備非晶薄帶，及真空噴鑄法制備大塊非晶材料。本設(shè)備也可用于感應(yīng)熔煉澆鑄各類(lèi)合金小試樣。適用于大專(zhuān)院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行新材料的科研與小批量的生產(chǎn)。

　　真空甩帶爐甩帶功能采用氣缸升降，可實(shí)現(xiàn)石英坩堝到銅輪的距離微調(diào)、自動(dòng)下降、延時(shí)0.1~5秒自動(dòng)噴氣，每次可甩5~50g非晶薄帶或顆粒;熔煉澆注功能：可一次性熔煉50~500g金屬，熔煉好后可澆鑄在錠模內(nèi)。根據(jù)模具的尺寸，可以澆鑄直徑10mm~50mm的棒料或其他規(guī)格的成品;可以澆鑄金屬錠或者直接制備非晶金屬棒或其他異形產(chǎn)品。

　　真空甩帶爐采用直連泵加油擴(kuò)散泵(或者分子泵)，用油擴(kuò)散泵真空度可達(dá)6.67×10-3Pa,用分子泵真空度可達(dá)6.67×10-4Pa，爐體全采用不銹鋼，并做拋光處理。

　　真空熔煉爐主要由真空腔體、高頻加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、噴鑄甩帶系統(tǒng)、熔煉澆注系統(tǒng)、充放氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等組成。


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07 August 2023
氣相沉積爐的結(jié)構(gòu)及工作原理

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　　氣相沉積爐的結(jié)構(gòu)及工作原理　　氣相沉積爐（Gas Phase Deposition Furnace）是一種用于材料薄膜生長(zhǎng)的實(shí)驗(yàn)設(shè)備，常用于半導(dǎo)體、光電子、納米科技等領(lǐng)域。下面是氣相沉積爐的基本結(jié)構(gòu)和工作原理的簡(jiǎn)要說(shuō)明：　　氣相沉積爐結(jié)構(gòu)：　　氣相沉積爐通常由以下幾個(gè)主要組成部分構(gòu)成：　　1.反應(yīng)室（Reaction Chamber）：用于放置材料襯底（Substrate）以及執(zhí)行反應(yīng)的區(qū)域。反應(yīng)室通常是一個(gè)密封的金屬腔體，具有高溫抗腐蝕性能。　　2.加熱系統(tǒng)（Heating System）：用于提供反應(yīng)室內(nèi)的高溫環(huán)境。加熱系統(tǒng)通常采用電阻加熱或感應(yīng)加熱的方式，通過(guò)加熱元件（比如加熱線圈）提供熱源?！　?.氣體供應(yīng)系統(tǒng)（Gas Supply System）：用于控制和提供反應(yīng)室內(nèi)所需的氣體混合物。氣體供應(yīng)系統(tǒng)通常包括多個(gè)氣體進(jìn)口、流量控制器和混合裝置等?！　?.排氣系統(tǒng)（Exhaust System）：用于排除反應(yīng)室內(nèi)產(chǎn)生的廢氣和雜質(zhì)。排氣系統(tǒng)通常包括真空泵和廢氣處理裝置等?！　?.控制系統(tǒng)（Control System）：用于對(duì)爐子的溫度、氣體流量等參數(shù)進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)控和調(diào)節(jié)?！　庀喑练e爐工作原理：　　氣相沉積爐的工作原理是利用熱分解或化學(xué)反應(yīng)將氣體源中的原料分子在高溫環(huán)境下轉(zhuǎn)化為可沉積的材料薄膜。具體步驟如下：　　1.襯底放置：將待生長(zhǎng)的襯底放置在反應(yīng)室中的加熱區(qū)域，通常通過(guò)夾持裝置固定?！　?.加熱預(yù)處理：加熱系統(tǒng)提供熱源，將反應(yīng)室內(nèi)的溫度升至所需的生長(zhǎng)溫度。此過(guò)程通常在惰性氣氛下進(jìn)行，以排除氧氣和其他雜質(zhì)。　　3.氣體供應(yīng)和反應(yīng)：氣體供應(yīng)系統(tǒng)控制并提供所需的氣體混合物，其通過(guò)進(jìn)入反應(yīng)室與襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)或熱分解，產(chǎn)生可沉積的物種。　　4.材料沉積：沉積物種在襯底表面吸附并形成一層薄膜。其形貌、結(jié)構(gòu)和性質(zhì)可通過(guò)控制溫度、氣體流量和沉積時(shí)間等參數(shù)來(lái)調(diào)節(jié)?！　?.冷卻和取出：完成材料沉積后，可關(guān)閉氣體供應(yīng)和加熱系統(tǒng)，讓襯底緩慢冷卻。待冷卻至安全溫度后，可以取出生長(zhǎng)的薄膜。　　需要注意的是，具體的氣相沉積爐工作原理會(huì)因不同類(lèi)型的沉積方法（如化學(xué)氣相沉積、物理氣相沉積等）和所研究的材料而有所不同。上述僅為一般的工作原理示意，實(shí)際操作中需根據(jù)具體情況進(jìn)行參數(shù)調(diào)節(jié)和設(shè)備操作。