真空甩帶爐的使用 　　真空甩帶爐廠家采用熔態(tài)單輥旋淬法制備非晶薄帶，及真空噴鑄法制備大塊非晶材料。本設(shè)備也可用于感應(yīng)熔煉澆鑄各類合金小試樣。適用于大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行新材料的科研與小批量的生產(chǎn)。 　　真空甩帶爐甩帶功能采用氣缸升降，可實(shí)現(xiàn)石英坩堝到銅輪的距離微調(diào)、自動(dòng)下降、延時(shí)0.1~5秒自動(dòng)噴氣，每次可甩5~50g非晶薄帶或顆粒;熔煉澆注功能：可一次性熔煉50~500g金屬，熔煉好后可澆鑄在錠模內(nèi)。根據(jù)模具的尺寸，可以澆鑄直徑10mm~50mm的棒料或其他規(guī)格的成品;可以澆鑄金屬錠或者直接制備非晶金屬棒或其他異形產(chǎn)品。 　　真空甩帶爐采用直連泵加油擴(kuò)散泵(或者分子泵)，用油擴(kuò)散泵真空度可達(dá)6.67×10-3Pa,用分子泵真空度可達(dá)6.67×10-4Pa，爐體全采用不銹鋼，并做拋光處理。 　　真空熔煉爐主要由真空腔體、高頻加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、噴鑄甩帶系統(tǒng)、熔煉澆注系統(tǒng)、充放氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等組成。

       真空甩帶爐真空噴鑄爐熔煉爐制備大塊非晶及性能測(cè)試實(shí)驗(yàn)是學(xué)習(xí)非自耗真空電弧爐，小型甩帶機(jī)，電阻爐，金相顯微鏡的使用，以及金相樣品的制備。          　　真空甩帶爐廠家表示這是利用形核理論，對(duì)大塊非晶合金的形成條件、控制因素、合金成分設(shè)計(jì)思路、制備原理與技術(shù)等進(jìn)行了分忻與討論。非均勻形核的避免和均勻形核的抑制是大塊非晶合金成功制備的充分必要條件，前者要通過外部熔煉條件的有效控制來實(shí)現(xiàn)，包括：熔煉提純、合理的冷卻介質(zhì)和惰性氣氛保護(hù)等：后者要通過合理的成分設(shè)計(jì)來實(shí)現(xiàn)，包括：多組元、高原子尺寸比、人負(fù)混合熱、低熔點(diǎn)組元或低熔點(diǎn)共晶。 　　這個(gè)實(shí)驗(yàn)多用于學(xué)校所以真空甩帶爐廠家簡(jiǎn)明說下實(shí)驗(yàn)方法與步驟： 　　(一)成分設(shè)計(jì) 每個(gè)小組的材料體系不同，具體成分設(shè)計(jì)課通過查閱文獻(xiàn)和小組成員討論后確定。 　　(二)材料制備 根據(jù)設(shè)備的使用情況和每個(gè)小組的興趣出發(fā)，可以選擇適合的制備方法(真空吸鑄，真空甩帶爐甩帶法，銅模冷卻法)。 　　(三)性能檢測(cè) 通過XRD確定材料的相結(jié)構(gòu)，再對(duì)所制備材料進(jìn)行性能測(cè)試(硬度微觀結(jié)構(gòu)等)。并分析組織與結(jié)構(gòu)之間的內(nèi)在關(guān)系。 　　(四)實(shí)驗(yàn)報(bào)告 以小組為單位提交一份實(shí)驗(yàn)報(bào)告，包括：實(shí)驗(yàn)內(nèi)容、原理、數(shù)據(jù)分析、以及實(shí)驗(yàn)心得。其中實(shí)驗(yàn)心得包括：實(shí)驗(yàn)的成功經(jīng)驗(yàn)和失敗原因總結(jié)。 　　真空甩帶爐廠家提醒操作者，操作設(shè)備時(shí)嚴(yán)格按照操作規(guī)程，并在指導(dǎo)下完成。實(shí)驗(yàn)完畢后清理場(chǎng)地，并保持實(shí)驗(yàn)室衛(wèi)生及實(shí)驗(yàn)器材擺放整齊。